MICROPOSIT S1813G2

Фоторезист S1813G2 — это современное решение для производства интегральных микросхем и других компонентов микроэлектроники, где требуется высокая точность, стабильность и безопасность в технологическом процессе. Благодаря специально подобранной формуле, материал обеспечивает качественное покрытие и безопасен при применении, так как не содержит ацетата эфира и ксилола. Его состав основан на альтернативном растворителе, не уступающем по эффективности, но более экологичном и менее токсичном.

Толщина покрытия регулируется в пределах от 0,7 до 2,8 мкм, что позволяет точно подстраивать параметры под конкретные задачи. Фоторезист доступен в окрашенных версиях, что особенно удобно при работе с подложками с высокой отражающей способностью — это минимизирует оптические артефакты и упрощает контроль ширины линий при экспонировании.

Основные преимущества материала:

• Чёткое и равномерное покрытие без образования борозд и полос

• Отличная адгезия к различным типам подложек

• Высокая степень однородности покрытия даже при тонких слоях

• Возможность выбора между различными вязкостями для однослойного нанесения

• Полная совместимость с g- и i-линиями экспонирования

• Надёжная фильтрация до 0,2 мкм, обеспечивающая чистоту материала

• Стойкость и предсказуемость результатов от партии к партии благодаря строгому контролю качества

Для проявления рисунка используются стандартные проявители MF-319 и MF-321, а удаление производится с помощью Microposit Remover 1165. Это делает процесс удобным и интегрируемым в существующие производственные линии без необходимости менять оборудование или химические средства.

Заказывайте S1813G2 у нас — и получите проверенное решение для точных технологических процессов с гарантией стабильности, высокого качества и оперативной поставки. Мы предлагаем конкурентоспособные цены, техническую поддержку и индивидуальный подход к каждому клиенту.

Свяжитесь с нами, чтобы получить консультацию и подобрать оптимальное решение под ваши задачи в сфере микроэлектроники!